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，機羲近代妈哪家补偿高導致成本偏高
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為了突破 EUV 技術瓶頸，代妈可以拿到多少补偿仍有待觀察
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中國受美國出口管制影響，哈爾濱團隊之前研發出能產生 13.5 奈米 EUV 光的【代妈招聘公司】 LDP 光源，無法取得最先進的 EUV 機台，

• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV, But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源：中國杭州人民政府）

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